LOW-E玻璃真空磁控溅射镀膜

技术参数 Technical Parameter:

所谓的真空磁控溅射玻璃镀膜，是在真空环境中，利用低压气体的放电现象，使处于等离子状态的离子轰击靶材表面，并利用磁场控制辉光放电，使靶材溅射出的粒子沉积在玻璃基片上，从而实现玻璃的镀膜工艺。